光干渉法を用いた、多層膜測定可能な小型プローブの膜厚モニタです。
メンテナンス性に優れ、プロセス装置内への組み込みやライン管理用途としても利用できます。
例えば、成膜,研磨,エッチングプロセス中のインラインモニタやエンドポイントモニタ(終点検出センサ)として使え、膜厚のリアルタイムモニタリング(実時間監視)が可能です。
また、ポリシリコンの結晶性評価ポーラス膜の密度評価としても適用可能です。

  • ポリシリコンの結晶性評価
  • ポーラス膜の密度評価
  1. 小型ファイバープローブ対象面からプローブまでのl距離は、1mmから80mm程度を推奨します。 測定領域は約3mmφとなります。
    (オプションで1mmφのアタッチメントを用意。)
    プローブの種類を変更することにより、サンプルとの距離を100mm以上離すことが可能です。
    高さ30mmの小型プローブを採用したことで、機器内の僅かな空間に取り付け可能です。
    また、プローブから本体へは光ファイバのみにて接続しているため、耐環境性に優れます。
  2. 膜厚測定再現性 0.1nm以下(3σ)30nm以上1000nm未満のSi基板上のSiO2単層膜において、0.1nm(3σ)以下。 1000nm以上のSi基板上のSiO2単層膜において、0.01%(3σ)以下。 ただし、推奨設置環境条件を満足すること。
  3. 多層膜同時測定 9層対応同時測定可能な層数は、実際の膜構造及び測定波長域に依存します。
  1. 膜質解析機能有効媒質近似法を採用しています。 なお、100nm未満の膜厚の薄膜において光学定数の解析が困難になります。
    • 有効媒質近似(EMA)法による混合層の混合率算出、結晶性判定
    • 光学定数解析
  2. 目的によって選べる光源対象膜厚と要求精度によって最適な光源は異なります。
  3. 無線対応(オプション)白色LED光源のみ対応。電源はリチウムイオンバッテリーで供給し、データはWi-Fiで通信します。

推奨環境条件

温度 :セットポイント 18 ~ 45℃の範囲内
長期変化 :±2.0℃/24時間以上(基準セットポイント)
短期変化 :±1.0℃/1時間×1周期(基準セットポイント)
湿度 :45%±20%(結露無き事)