光干渉法を用いた反射式膜厚モニタです。光学特性に優れた反射プローブを採用し、小型で高精度です。
取り扱いが簡単で、1nmから数十μｍの透明膜の膜厚測定が可能です。
またプロセス中のインラインモニタやエンドポイント（終点）検出センサとしても利用可能です。
オプションのマッピングユニットと組み合わせて、半導体製造装置のロードポートに設置して、クリーン度を保ったまま製造装置上で膜厚管理が可能です。

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自動マッピング膜厚計は、全面自動マッピング膜厚測定が可能です。
高精度なノッチ（オリフラ）検出機能を備えております。
また、ウェハ以外の任意パターン内の測定も対応可能です。

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顕微画像分光法による、膜厚分布を高分解能で可視化できる膜厚計です。
顕微鏡視野内の領域内に透明多層膜の膜厚分布を10nm以下の高分解能で測定できます。
光干渉法を用いた反射分光式のため、手軽に0.1nm以下の膜厚精度が得られます。

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